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加工

MA/BA Gen4双面光刻机

文字:[大][中][小] 手机页面二维码 2021-10-19     浏览次数:    

设备名称

 双面光刻机

型号

 MA/BA Gen4

制造商

 德国SUSS MicroTec

配置与功能

 1、配置消衍射及微镜式光学系统,可在同一设备上实现“高分辨率”和“大景深”两种模式曝光;

 2、配置专用的操作摇杆,由摇杆进行显微镜、对准台等部件的移动和操作;

 3、显微镜系统支持亮度、放大倍数、增益、积分时间和对比度等调节功能;

 4、具有晶圆键合预对准功能,设备预留相应的升级接口。

主要技术

指标

 1、分辨率:优于0.8um;

 2、光强均匀度:优于±2.5%;

 3、套刻精度:正面套刻精度±0.5um,背面套刻精度±1.0um;

 4、支持大景深光刻对准技术,显微镜对准景深大于400um。

设备联系人

 陈兴、季亚军、陈军飞

联系方式

 18955390311、18297520541、17856914601

设备照片

 

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